NVIDIA CEO’su Jensen Huang, GAA (gate-all-around) türündeki transistörlere dayanan yeni nesil süreç teknolojilerinin şirketin grafik işlemcileri için yaklaşık %20’lik bir performans artışı getireceğini söyledi. Huang’a bundan iki nesil sonra (2028) beklenen gelecek nesil NVIDIA GPU mimarileri soruldu. Trilyon dolarlık şirketin patronu, GAA transistörlere geçiş yapılması durumunda performansın %20 artacağını vurguladı.

NVIDIA’nın hangi üretim teknolojisini kullanmayı planladığına dair kesin bir açıklama yapılmadı. Ancak cevap, şirketin özellikle Samsung Foundry’i kullanma potansiyeli hakkındaki yorumlarını arayan bir analist sorusuna yanıt olarak verildi. Jensen ayrıca öncü süreç teknolojilerinin sağladığı iyileştirmelerin memnuniyetle karşılandığını, ancak bunların artık dönüştürücü olmadığını belirtti.

“Bunu kabul ediyoruz” dedi ve diğer faktörlerin daha önemli olduğunu belirtti. Yapay zeka sistemleri ölçeklendikçe, çok sayıda işlemciyi yönetmenin verimliliği her bir işlemcinin ham performansından daha önemli hale geliyor. Veri merkezlerinin giderek daha fazla watt başına performansa baktığını söyleyen Jensen, “fiziğin sınırındayız” diye bir şey demedi.

NVIDIA, Apple gibi bir süreç teknolojisi çıkar çıkmaz ürünlerinde kullanan bir şirket değil. Bunun aksine kendini kanıtlamış teknolojileri kullanıyorlar ve bir adım geriden geliyorlar. GPU üreticisi, bilgisayarlar ve veri merkezleri için Ada Lovelace, Hopper ve Blackwell GPU’larını üretmek için TSMC’nin 4nm sınıfı süreç teknolojilerinin (4N ve 4NP) uyarlanmış sürümlerini kullandı. TSMC 4nm üretimi, 5nm sınıfı süreç geliştirme kitine ait ve esasen dökümhanenin 5nm teknolojisinin rafine edilmiş versiyonları.

Şirketin yapay zekaya yönelik yeni nesil çiplerinin (kod adı Rubin, özel Vera CPU’larla birlikte) gelecek yıl TSMC 3nm sınıfı üretim sürecini (muhtemelen N3P veya “3NP” gibi özel bir versiyon) kullanması bekleniyor. Bu bağlamda, NVIDIA’nın 2028’de Feynman adıyla beklenen mimari için GAA tabanlı bir süreç teknolojisini benimsemesi muhtemel.

TSMC’ye ait ilk GAA tabanlı süreç teknolojisi N2 adını taşıyacak. Öncü yarı iletken şirketi,  N2’nin N3P’den önceki ikinci nesil 3nm sınıfı süreç teknolojisi olan N3E’ye kıyasla performansı %10 ila %15 oranında artırmasını bekliyor. Jensen Huang ise Samsung veya TSMC herhangi bir şirketten bahsetmedi, genel olarak %20’lik bir iyileşme beklediğini öne sürdü.